中村 挙子 | 産業技術総合研究所

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概要

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• 産業技術総合研究所の論文著者

関連著者

• 中村 挙子

  産業技術総合研究所

• 大花 継頼

  産業技術総合研

• 長谷部 光泉

  慶應義塾大学 大学院理工学研究科

• 鈴木 哲也

  慶應義塾大学 大学院理工学研究科

• 長谷部 光泉

  東海大学医学部

• 薮野 元

  慶應義塾大学大学院理工学研究科

• 笠井 ルミ子

  東邦大学医療センター佐倉病院

• 中村 挙子

  (独)産業技術総合研究所 ナノカーボン研究センター

• 坪田 敏樹

  九州工業大学

• 萩原 佑太

  九州工業大学

• 中村 挙子

  産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門

• 大花 継頼

  産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門

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著作論文

• 科学解説 光化学反応を利用したナノカーボン材料のフッ素官能基化学修飾
• 光化学反応を利用したダイヤモンド系材料のフッ素官能基化学修飾
• 独立行政法人産業技術総合研究所新炭素系材料開発研究センターの紹介
• 光化学反応による硫黄官能基修飾カーボン系材料の作製および金表面上における挙動(バイオ,界面,材料センサー,電子移動,一般)
• 化学修飾ナノダイヤモンド粒子MRI造影剤の作製(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術及び一般)
• 化学修飾ナノダイヤモンド粒子MRI造影剤の作製(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術及び一般)

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