水谷 由宏 | 上智大 ・ 理工
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概要
関連著者
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水谷 由宏
上智大 ・ 理工
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水谷 由宏
上智大理工
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水谷 由宏
上智大学理工学部物理学科
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水谷 由宏
上智大学理工学部機能創造学科
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高見 道生
理研
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清水 文子
上智大理工
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塚越 幹郎
理研
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塚越 幹郎
東理大・理:理研
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箕曲 在道
理研
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久世 宏明
理研
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箕曲 在道
東理大・理:理研
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岡村 秀樹
理化学研究所レーザー物理工学研究室
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田中 克己
上智大 理工
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松本 吉泰
理研
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佐々木 康二
上智大理工
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一ノ瀬 秀男
上智大理工
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前田 はるか
東大工
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鈴木 篤之
東大工
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前田 はるか
理研
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鈴木 篤之
東京大学工学部
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亀岡 優
赤外・ラマン分光技術センター 日本パステック株式会社
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三宅川 弘明
上智大 ・ 理工
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前田 はるか
青山学院大学理工学部物理・数理学科
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岡村 秀樹
理化学研究所
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植田 憲一
電通大レーザー研
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水谷 由宏
理研
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植田 憲一
電通大 新形レーザー
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佐々木 康二
日本板ガラス
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水谷 由宏
上智大 理工
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清水 文子
上智大 理工
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田中 克己
上智大理工
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水戸 郁夫
日本電気(株)光エレクトロニクス研究所
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Tank V.
ドイツ航空宇宙技術研究所
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三宅川 弘明
上智大学理工学部物理学科
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Steinfeld J.i.
Mit
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HARRICK N.
Oak Ridge Centers for Manufacturing Technology
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lindermeir e.
ドイツ航空宇宙技術研究所
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haschberger p.
ドイツ航空宇宙技術研究所
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亀岡 優
日本パステック株式会社光計測研究室
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水戸 郁夫
日本電気 (株) 光エレクトロニクス研究所
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植田 憲一
電通大レーザー新世代研セ
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Harrick N.J.
赤外, ラマン分光技術センター, 日本パステック株式会社
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植田 憲一
電通大レーザー
著作論文
- 3p-P-4 赤外ダイオードレーザーと分子線による高分解能分光
- 1p-Q-7 ノズルビーム法によるメタン分子線の赤外吸収
- 3p-P-9 CO_2レーザーによるOptogalvanic効果 III : Side hight Fluctuation
- 1p-Q-1 CO_2 laserにおけるOpto Galvanic効果II
- 3p-T-4 PbO分子のレーザー励起蛍光寿命の測定
- 5a-N-11 BaOの電子励起状態分布,およびレーザー誘起蛍光スペクトルの測定
- 表面分析用ポータブルFT-IR-その性能と実用化-
- 4a-N-6 二重共鳴法によるO_3の回転緩和の測定
- 5p-E5-3 ランタン系列原子の共鳴イオン化分光
- 5p-E5-3 ランタン系列原子の共鳴イオン化分光
- 27a-G-10 ダイオードレーザーによる分子線の吸収分光
- TOF法における空間電荷効果の評価
- 新方式フーリエ変換分光光度計と環境計測への応用
- 拡散分子動力学のためのカットオフ半径
- 強光子場下におけるクラスターのイオン化のシミュレーション
- 日本の分光学会と「分光研究」誌
- 新しい光源と分光応用 : 第5講半導体レーザーと分光応用