中尾 基 | 九州工業大学総合システム研究科
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概要
関連著者
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中尾 基
九州工業大学工学部
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中尾 基
九州工業大学総合システム研究科
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横山 圭祐
九州工業大学マイクロ化総合技術センター
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中村 浩之
九州工業大学マイクロ化総合技術センター
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大西 克典
九州工業大学マイクロ化総合技術センター
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中尾 基
九州工業大学大学院工学研究院
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中村 浩之
JA廣島総合病院外科
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中尾 基
九州工業大学大学院工学研究
著作論文
- 3C-SiC-OI基板上でのMOSゲート絶縁膜のプロセス依存性(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス/一般)
- 3C-SiC-OI基板上でのMOSゲート絶縁膜のプロセス依存性(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス/一般)