馮 吉才 | ハルピン工大
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概要
関連著者
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馮 吉才
ハルピン工大
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奈賀 正明
大阪大学接合科学研究所
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馮 吉才
大阪大学接合科学研究所
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奈賀 正明
大阪大学溶接工学研究所
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Schuster J
Univ. Vienna Vienna Aut
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Schuster Julius
大阪大学接合科学研究所
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Schuster J.
ウィーン大学物理化研究所
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馮 吉才
大阪大学大学院
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王 其隆
ハルピン工業大学国家重点溶接実験室
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馮 吉才
ハルピン工業大学国家重点溶接実験室
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馮 吉才
大阪大学溶接工学研究所
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奈賀 正明
大阪大学 接合科学研究所
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SCHUSTER Julius
ウィーン大学
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深井 卓
大阪大学接合科学研究所
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SHUSTER Julius
大阪大学接合科学研究所
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Schuster J.c.
大阪大学大学院
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Schuster J.
ウィーン大
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J.c. Schuster
ウィ-ン大学物理化学研究所
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魚住 浩志
大阪大学大学院
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方 洪淵
ハルピン工業大学国家重点溶接実験室
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深井 卓
大阪大学
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Schuste J.C.
大阪大学大学院
著作論文
- 中国における溶接技術及び生産の現状(第2報)
- 中国における溶接技術及び生産の現状(第1報)
- SiC/Cr界面における反応相の成長挙動
- Ti箔による炭化ケイ素セラミックスの拡散接合
- SiC/Ta/SiC接合体の界面反応と強度
- SiC/Ti接合界面の構造と強度
- SiC/V接合層の構造と破断強度
- SiCセラミックとTi箔の接合における固相反応機構
- SiC/Cr接合層の構造と破断強度
- Ni-Cr/SiC固相接合体の界面構造
- 中国におけるろう付, はんだ付技術の現状と将来
- SiC/Nb接合界面の構造と強度
- 426 SiCとNbの固相接合と反応
- 218 炭化ケイ素とクロムの固相接合
- 253 炭化ケイ素とチタンの固相接合