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手島 寛郎 | 電試田無
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小宮 祥男
電試田無
垂井 康夫
電試田無
手島 寛郎
電試田無
吉田 泰幸
大興電機
大橋 章二
大興電気
鮫島 宗光
多摩電氣
著作論文
MOS構造のB.T.処理によるイオン移動 : 半導体(結晶成長, Device (酸化膜))
シリコン気相成長への電界の影響III : 半導体 : 気相成長
シリコン気相成長層中の不純物分布 : 応用半導体
シリコン氣相成長への電界の影響II : 応用半導体
シリコン氣相成長への電界の影響I : 応用半導体
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