深海 登世司 | 東京電機大学工学部応用理化学科

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関連著者

• 本間 和明

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• 本間 和明

  電機大工

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  東京電機大学工学部応用理化学科

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  東京電機大学工学部電気電子工学科

• 深海 登世司

  東京電機大

• 本橋 光也

  東京電機大学工学部情報通信工学科

• 本間 和明

  東京電機大 工

• 木下 彬

  東京電機大学理工学部

• 青野 朋義

  東京電機大学工学部

• 中野 朝安

  東京電機大

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  東京電機大

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• 本橋 光也

  東京電機大学工学部

• 賀集 晶子

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著作論文

• 5)撮像デバイス用a-Si : H膜(〔テレビジョン電子装置研究会(第126回)画像表示研究会(第86回)〕合同)
• 撮像デバイス用a-Si : H膜
• 水素化アモルファスシリコン膜における微結晶化過程
• グロ-放電水素化アモルファスシリコン膜に及ぼすプラズマ制御用電極の影響
• グロ-放電法により作製した水素化アモルファスシリコン薄膜の基板依存性

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