玄 一 | 半導体MIRAI-産総研ASRC

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概要

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• 同名の論文著者
• 半導体MIRAI-産総研ASRCの論文著者

関連著者

• 安田 哲二

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 北条 大介

  筑波大

• 北條 大介

  半導体mirai-産総研asrc

• 玄 一

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 北條 大介

  国立大学法人 東北大学 原子分子材料科学高等研究機構

著作論文

• 気液ハイブリッド法によるハフニウムシリケート薄膜の作製とその電気特性 : TEOSによるシリケート膜の成長(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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