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香取 健二 | 中央研究所
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青山 純一
ソニー
文 範基
ソニー(株)、コアテクノロジー開発本部
青山 純一
超lsi研究所
磯辺 千春
中央研究所
香取 健二
中央研究所
磯辺 千春
ソニー(株)、コアテクノロジー開発本部
著作論文
低温プロセスによる高絶縁・高容量Ta_2O_5キャパシタ膜の作製 : Ta_2O_5キャパシタ膜の電気的特性改善
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