泉田 和夫 | 東京農工大学
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概要
関連著者
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臼井 博明
東京農工大学
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田中 邦明
東京農工大学
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泉田 和夫
東京農工大学
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松田 剛
東京農工大学大学院工学府
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松田 剛
東京農工大学大学院
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田中 邦明
東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
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泉田 和夫
東京農工大学大学院工学研究院:住友精密工業(株)
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臼井 博明
東京農工大有機材料化学科
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田中 邦明
東京農工大学工学部
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河西 匠
東京農工大学大学院工学府
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河西 匠
東京農工大学大学院
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外輪 俊介
東京農工大学
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松田 剛
東京農工大学大学院工学研究院
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泉田 和夫
東京農工大学大学院工学研究院
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河西 匠
東京農工大学大学院工学研究院
著作論文
- イオン照射アシストによる蒸着重合膜の作製(有機薄膜・複合膜とデバイス応用,一般)
- C-13-3 イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子膜の光学反射防止特性(C-13.有機エレクトロニクス,一般セッション)
- C-13-13 イオンアシスト蒸着重合によるPET上へのフッ素系高分子薄膜の作製(C-13.有機エレクトロニクス,一般セッション)
- イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善(材料デバイスサマーミーティング)
- イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善(材料デバイスサマーミーティング)
- イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善(材料デバイスサマーミーティング)
- イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製
- イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製
- C-13-6 イオンエネルギーの制御によるフッ素系蒸着重合膜の特性最適化(C-13.有機エレクトロニクス,一般セッション)
- C-13-8 イオン照射による無機基板とフッ素系高分子薄膜の密着性改善(C-13.有機エレクトロニクス)