大村 泰久 | 関西大学大学院工学研究科 ハイテクリサーチセンター

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概要

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• 同名の論文著者
• 関西大学大学院工学研究科 ハイテクリサーチセンターの論文著者

関西大学大学院工学研究科 ハイテクリサーチセンター | 論文

• シミュレーションによるシリコン酸化膜の成長機構に関する検討
• シミュレーションによるシリコン酸化膜の成長機構に関する検討
• 急速酸化法を用いたシリコン表面における分圧酸化の機構の検討 : Silicon fragmentモデルによる解釈

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