小石川 幸正 | NEC半導体事業部

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概要

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• 同名の論文著者
• NEC半導体事業部の論文著者

関連著者

• 伊藤 幸雄

  NEC半導体事業部

• 高橋 美朝

  NEC半導体事業部

• 小石川 幸正

  NEC半導体事業部

• 高橋 美朝

  Nec 半導体事業部

著作論文

• Hブリッジ用低オン抵抗IPDプロセスの開発 : 耐圧53V,A・Ron=116mΩ・mm^2のHブリッジ用IPDプロセスの開発

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