大井 英之 | 株式会社クレステック

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概要

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• 株式会社クレステックの論文著者

関連著者

• 大井 英之

  株式会社クレステック

• 黒澤 正紀

  筑波大・生命環境

• 宮崎 武司

  株式会社クレステック

• 林 國人

  株式会社クレステック

• 山崎 裕幸

  NECナノエレクトロニクス研究所

• 工藤 耕治

  NEC 光・超高周波デバイス研究所

• 山口 昌幸

  NEC 光・超高周波デバイス研究所

• 佐々木 達也

  Necシステムデバイス研究所

• 佐々木 達也

  NEC 光・無線デバイス研究所

• 山口 昌幸

  NEC化合物デバイス事業部

• 山崎 裕幸

  NEC 光エレクトロニクス研究所

• 小林 一彦

  株式会社クレステック

• 村尾 智

  地質調査所

• 佐々木 達也

  Nec 光・無線デバイス研

• 久芳 幸夫

  株式会社クレステック

• 森田 久幸

  株式会社クレステック

• 二田 英之

  株式会社クレステック

• 林 國人

  (株)クレステック

• 大井 英之

  (株)クレステック

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著作論文

• 次世代HDD用回転ステージ電子線描画技術開発とナノインデンテーションテスト (硬さ試験特集 ナノインデンテーション領域における材料特性の高度化への新手法と超微小領域加工技術)
• パターンドメディア用EBマスタリング装置のブランキングレス描画技術
• 回折格子の精密制御EB描画によるWDM用異波長DFB-LDの一括形成
• 高分解能電子線描画装置 (特集 ナノテク製造・評価装置の最新成果)
• 電子ビームによる超微細加工装置 (特集 ナノテクノロジー開発の最適ソリューション)
• マイクロPIXEによるステンレスと珪酸塩ガラス中の微量元素の分析
• 地球科学用PIXEとその特性

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