香門 浩一 | 住友電気工業(株)基盤技術研究所

スポンサーリンク

概要

• 香門 浩一の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 住友電気工業(株)基盤技術研究所の論文著者

関連著者

• 香門 浩一

  住友電気工業(株)基盤技術研究所

• 石井 恂

  三菱電機(株)中央研究所

• 香門 浩一

  光技術共同研究所

• 高岸 成典

  光技術共同研究所

• 山口 剛司

  住友電工

• 木村 康三

  光技術共同研究所

• 難波 宏邦

  住友電気工業株式会社

• 三原 稔

  光技術共同研究所

• 石井 恂

  光技術共同研究所

• 難波 宏邦

  住友電工

• 大坂 始

  住友電工

• 香門 浩一

  住友電工

• 樋口 文章

  住友電工

• 樋口 文章

  住友電気工業株式会社

• 難波 宏邦

  住友電気工業

• 堀口 青史

  光技術共同研究所

• 嶋津 充

  住友電気工業(株)基盤技術研究所

• 嶋津 充

  光技術共同研究所

• 森 英樹

  光技術共同研究所

• 嶋津 充

  住友電気工業

もっと見る 閉じる

著作論文

• 減圧OMVPEによるAl_Xga_Asの選択成長 : 原子層エピタキシー技術の基礎 : トピカル・シンポジウム
• TEGを用いたGaAs, AlGaAs減圧OMVPE : エピタキシー
• GaAs減圧OMVPEのガス分析 : エピタキシー
• CVD反応によるZnSeの合成(III) : 気相成長
• CVD反応によるZnSeの合成(II)
• CVD反応によるZnSeの合成 : 気相成長
• 減圧MOCVD法によるGaAsの選択エピタキシャル成長
• AlGaAs系化合物半導体の選択成長

スポンサーリンク