城田 幸一郎 | 理研ナノフォトニクス:crest
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概要
関連著者
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城田 幸一郎
理研・河田ナノフォトニクス研究室:crest
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城田 幸一郎
理研
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城田 幸一郎
(独)理化学研究所河田ナノフォトニクス研究室
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Shirota Koichiro
Department Of Organic And Polymeric Materials Tokyo Institute Of Technology
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Koichiro Shirota
Optical Engineering Laboratory The Institute Of Physical And Chemical Research (riken)
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城田 幸一郎
理研ナノフォトニクス:crest
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城田 幸一郎
東工大・工
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石川 謙
東工大・工
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竹添 秀男
東工大・工
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酒井 隆宏
東工大・工
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柳沼 道雄
東工大・工
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福田 敦夫
東工大・工
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福田 敦夫
東工大
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福田 敦夫
東京工業大学 工学部
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河田 聡
理研・河田ナノフォトニクス研究室:crest:阪大院工
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福田 敦夫
信州大・繊維
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吉村 雄一
学習院大院自然科学
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城田 幸一郎
理研ナノフォトニクス
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河田 聡
理研ナノフォトニクス
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城田 幸一郎
理研・ナノフォトニクス研究室
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河田 聡
理研・ナノフォトニクス研究室
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木下 嘉将
東工大・工
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山田 俊樹
東工大・工
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星 肇
東工大・工
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椎橋 透
日本合成ゴム・筑波研
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城田 幸一郎
東芝総合研究所
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坂本 正典
東芝総合研究所
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星 肇
東工大院理工
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木下 嘉将
東京工業大学工学部
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椎橋 透
日本合成ゴム(株)東京研究所
著作論文
- 3C07 液晶フォトニックレーザーの発振安定性(2004年日本液晶学会討論会)
- 3C13 キラルネマチック液晶における1光子および2光子励起レーザー発振(フォトニクス・光デバイス)
- 1A03 SHG干渉法による配向膜側鎖と液晶単分子層の評価
- 1A11 液晶の界面配向とプレチルト角の相関
- 3G602 光第二高調波発生による液晶表面配尚の解析
- 1D110 STMによる液晶分子アンカリング構造の解析