楠 直樹 | (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

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概要

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関連著者

• 楠 直樹

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 金村 貴永

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 中村 光利

  半導体研究開発センター:株式会社東芝

• 金村 貴永

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 中村 光利

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 楠 直樹

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 金村 貴永

  半導体研究開発センター:株式会社東芝

• 福田 早苗

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 中内 孝浩

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 福田 寿一

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

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  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所:(株)東芝半導体設計・評価技術センター

• 中内 孝浩

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所:(株)東芝半導体設計・評価技術センター

• 青木 伸俊

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 青木 伸俊

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 青木 伸俊

  (株)東芝soc開発センター

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著作論文

• TCADを構成するプロセスシミュレータの開発期間短縮手法の提案 : 標準ライブラリの開発とそれを用いた汎用プロセスシミュレータ
• TCADを構成するプロセスシミュレータの開発期間短縮手法の提案 : 標準ライブラリの開発とそれを用いた汎用プロセスシミュレータ
• TCADを構成するプロセスシミュレータの開発期間短縮手法の提案 : 標準ライブラリの開発とそれを用いた汎用プロセスシミュレータ
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• 対拡散モデルを用いた高濃度ホウ素の拡散シミュレーション : 高速計算手法とシミュレーション精度

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