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吉富 貞幸 | 横浜国立大学工学部電子情報工学科
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関連著者
羽路 伸夫
横浜国立大学大学院工学研究院
羽路 伸夫
横浜国大
羽路 伸夫
横浜国立大学
富岡 聡志
横浜国立大学工学部電子情報工学科
吉富 貞幸
横浜国立大学工学部電子情報工学科
著作論文
ゲート絶縁膜に液相堆積法によるSiO_2膜を用いたSiMOSダイオードの諸特性
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