武田 英次 | 日立中研
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概要
関連著者
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武田 英次
日立中研
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浜口 智尋
阪大工
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浜口 智尋
大阪大学工学部
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林 豊
ソニー株式会社セミコンダクタカンパニー超lsi研究所
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関 浩一
日立製作所中央研究所
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山口 真史
豊田工業大学大学院工学研究科
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浜口 智尋
大阪大 工
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林 豊
ソニー超LSI
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山口 真史
NTT 光エレ研
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井沢 竜一
日立
著作論文
- ゲ-トパルス誘導ノイズに起因するACホットキャリヤ劣化
- 固体素子材料コンファレンス(SSDM'92)報告
- サブミクロンLSI技術 (最新半導体技術)
- 高性能サブミクロンデバイス技術の現状と将来 (シリコンLSIの高性能化技術特集)
- 実効チャネル長Leff=0.5μmMOSトランジスタ-におけるスケ-リング法則からのずれの諸現象 (LSI特集) -- (微細化デバイス)