内田 孝幸 | 東京工芸大
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概要
関連著者
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内田 孝幸
東京工芸大
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内田 孝幸
東京工芸大学工学部メディア画像学科
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永田 勇二郎
青学大理工
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内田 孝幸
東京工芸大学大学院工学研究科メディア工学専攻
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大塚 正男
東京工芸大学工学部
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大塚 正男
東京工芸大学大学院工学研究科
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大塚 正男
東京工芸大 大学院工学研究科
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内田 孝幸
東京工芸大 工
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秋光 純
青学大理工
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永田 勇二郎
青山学院大学
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佐俣 博章
神戸大
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内田 孝幸
青山学院大学理工学部(元)
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中村 奨
College Of Science And Engineering Aoyama Gakuin University
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永田 勇二郎
青学大 理工
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田村 徹
東京工芸大学工学部
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鈴木 伸彦
青学大理工
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田村 徹
東京工芸大学工学部メディア画像学科
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田村 徹
東京工芸大学大学院工学研究科画像工学専攻
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田村 徹
東京工芸大学
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田村 徹
東京工芸大
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佐俣 博章
青学大
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市原 正浩
東京工芸大学工学部
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金田 真吾
東京工芸大学大学院工学研究科画像工学専攻
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田村 徹
東京工芸大学工学部画像工学科
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佐俣 博章
神戸大院海事
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永田 勇二郎
青学大
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藤森 淳
東大理
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秋光 純
青山学院大
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生天目 博文
広大理
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内田 孝幸
青学大理工
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澤田 豊
東京工芸大工
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秋光 純
青学大・理工
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山田 勝実
東京工芸大学工学部ナノ化学科
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澤田 豊
東京工芸大
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澤田 豊
東京工芸大学大学院工学研究科工業化学専攻
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佐藤 利文
東京工芸大 工
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三村 寿文
東京工芸大学工学部
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中村 奨
青学大・理工
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内田 孝幸
青学大・理工
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永田 勇二郎
青学大・理工
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山田 勝実
東京工芸大学工学部光情報メディア工学科
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山田 勝実
東京工芸大学
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Nakamura S
College of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University
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星 陽一
東京工芸大学 工学部 システム情報学科
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小林 信一
東京工芸大学工学部
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山口 伸也
東大工
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毛利 信男
東大物性研
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高橋 博樹
日大文理
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久米 祐一郎
東京工芸大学
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栗林 英範
東京工芸大学大学院工学研究科メディア工学専攻
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政倉 祐子
東京工芸大学
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生天目 博文
東大理
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鳥居 寛之
東大理
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山田 義孝
青学大 理工
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秋光 純
青学大 理工
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鈴木 伸彦
青学大 理工
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内田 孝幸
青学大 理工
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高橋 博樹
東大物性研
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十倉 好紀
東大・理
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佐藤 利文
東京工芸大学メディア画像学科
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浴野 稔一
広大総合科
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森山 剛
東京工芸大学
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有馬 孝尚
東大・理
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守友 浩
東大・理
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富本 晃吉
青学大理工
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Shelton R.n.
Department Of Physics University Of California
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小杉 真
青学大理工
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中村 奨
青学大理工
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内田 孝幸
工芸大
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Tokura Y
Department Of Applied Physics University Of Tokyo:cross- Correlated Materials Research Group Riken:m
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栗林 英範
東京工芸大学工学部
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久米 祐一郎
東京工芸大学工学部メディア画像学科
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佐藤 利文
東京工芸大学工学部メディア画像学科
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佐藤 利文
東京工芸大学大学院工学研究科メディア工学専攻
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佐藤 昌美
(株)nhkテクニカルサービス
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齊藤 寛幸
東京工芸大学工学部
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占部 茂治
東京工芸大学工学部光情報メディア工学科
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井辻 健明
東京工芸大
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栗林 英範
東京工芸大 工
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小林 信一
東京工芸大学工学部電子工学科
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関 成之
東京工芸大学大学院
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中根 茂
東京工芸大学工学部 画像工学科
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森山 剛
東京工芸大学工学部メディア画像学科
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森山 剛
東京工芸大学工学部
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丹羽 宏
青山学院大理工
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及川 充
東京工芸大学
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小貫 義行
CGデザイナー
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山本 周
多摩ケーブルネットワーク株式会社
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川村 仁志
東京工芸大学工学部画像工学科
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植田 兼司
東京工芸大学大学院工学研究科
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坪川 克秀
東京工芸大学大学院工学研究科
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近藤 剛史
東京工芸大学大学院工学研究科
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王 美涵
東京工芸大学大学院工学研究科
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大友 俊夫
株式会社マツボー, 情報部門
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石原 弘樹
東京工芸大学
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星 作太郎
矢崎計器(株)
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佐俣 博章
神戸大学
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仲田 壮志
東京工芸大学工学部画像工学科
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菅原 將
東京工芸大
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古矢 雅彦
青学大
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Mori N
The Institute For Solid State Physics The University Of Tokyo
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山口 伸也
東大・理
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高橋 忍
青山学院大理工
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塩賀 健司
青山学院大理工
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内田 孝幸
東京芸大
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久米祐 一郎
早大
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内田 孝幸
東京工芸大学大学院工学研究科画像工学専攻
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LAN M.D.
Department of Physics, University of California
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富本 晃吉
青山学院大学理工学部
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Lan M.d.
Department Of Physics University Of California
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笠原 嘉浩
東京工芸大学大学院工学研究科画像工学専攻
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Klavins P
Department Of Physics University Of California
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Suzuki N
College of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University
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Mosley W.D.
Department of Physics ,University of California
-
Mosley W.d.
Department Of Physics University Of California
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Takahashi H
The Institute for Solid State Physics, University of Tokyo
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Shioga T.
青山学院大理工
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佐藤 恭央
応磁学会 青学大
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佐俣 博章
応磁学会 青学大
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永田 勇二郎
応磁学会 青学大
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Takahashi S.
青山学院大理工
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Niwa H.
青山学院大理工
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中村 奨
青山学院大理工
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伊藤 昌博
青山学院大理工学部
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瀧川 貴博
青山学院大理工学部
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五味 圭三
青山学院大理工学部
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関 成之
仙台電波工業高等専門学校 電子工学科
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王 美涵
東京工芸大学 ハイパーメディア研究センター
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高橋 博樹
日本大学文理学部
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大友 俊夫
株式会社マツボー 情報部門
-
久米 祐-郎
東京工芸大学 工学部 光工学科
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森山 剛
東京工芸大
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内田 孝幸
青山学院大理工学部
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Shelton R.N.
Department of Physics, University of California
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永田 勇二郎
青山学院大理工学部
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内田 孝幸
東京工芸大工
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清水 英彦
新潟大工
-
清水 英彦
新潟大
著作論文
- 15a-E-8 Ba_K_xBiO_3の金属絶縁体転移
- 26p-PSB-4 Ba_K_xBiO_3の光電子分光
- 28p-PS-68 BKBOのトンネル効果
- 12p-PSB-48 単結晶Ba_K_xBiO_3のトンネル測定
- ハイパーメディア環境による次世代ホームシアター
- ディスプレイの不定形ムラ評価法に関する実験的検討(ディスプレイ-IDW '07を中心に-)
- メロシアニンおよびフタロシアニン有機超薄膜の光電変換特性
- 補色残像に対する解析の一試み
- MEH-PPVを用いた透明高分子有機EL素子
- ビナフチル-フルオレン共重合高分子による直線偏光電場発光
- スプレーCVD法で成膜したITO膜を陽極に用いた色素分散型高分子有機EL素子の作製と評価
- RGB各透明有機ELを積層させたフルカラー表示画素の初期的検討
- 有機EL/透明電極界面での電荷注入とシースルー有機EL素子
- 145.非発光時に透明で両面発光可能なフレキシブル透明有機EL素子((9)光関連材料・デバイス)
- 透明有機EL素子に用いる陰極の検討
- LB法によりフタロシアニンバッファ層を2種挿入したOLED
- フタロシアニンLB膜の熱処理と光電特性
- x型無金属フタロシアニンを用いた有機光センサ
- 電気化学合成法による広いK組成範囲をもつBa_K_xBiO_y単結晶の作製と評価
- 1a-J-10 Ba_K_xBiO_3単結晶の光スペクトルの圧力依存性
- 12p-PSA-63 Gd_Ce_xCuO_4結晶の磁気的性質
- 東京工芸大学 ハイパーメディア研究センター
- 非銅系酸化物および化合物の探索と電子物性の研究 (新しい高温超伝導体の設計と探索)
- Cs添加ITO透明陰極を用いたR, G, B透明有機EL素子の検討
- Effect of growth conditions on the superconductivity of Ba_K_xBio_3 crystals
- High pressure study on the superconducting transition temperature and Hall coefficient of Ba_K_xBiO_3 up to 8 GPa
- 1p-PS-33 BKBOのT_C、ホール係数の圧力効果
- Sm-Fe系金属間化合物単結晶の磁気特性
- 有機ELの原理と最近の技術
- 透明有機エレクトロルミネセンス素子
- 12p-PSA-10 Ba_K_xBiO_3結晶の組成と超伝導
- 酸化物導体及び酸化物超伝導体に関する研究 (耐環境性極限電子材料の開発に関する基礎的研究)
- 酸化物導体及び酸化物超伝導体に関する研究 (耐環境性極限電子材料の開発に関する基礎的研究)
- Bi-Sr-Cu系酸化物をベースとした超伝導体
- CS-4-1 有機EL素子上部電極作製のための低ダメージスパッタ堆積法の検討(CS-4.有機エレクトロニクスデバイス作製・評価技術の最新動向と今後の展望)
- スパッタ法による上部電極膜の作製が有機EL素子の動作特性に及ぼす影響