鈴木 剛臣 | 東海大 (工)

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著作論文

• 透明SiO_2膜の室温形成 -分解光源の違いによる膜の電気的特性の比較-
• エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング[III] -VUV光に対するエッチャントガスの吸光係数と分解量-
• 透明SiO_2膜の室温成長とコンタクトホール同時形成
• ArFエキシマレーザーによる透明SiO_2膜の室温形成(III)

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