三木 久幸 | 昭和電工株式会社研究開発センター(土気)

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概要

• 同名の論文著者
• 昭和電工株式会社研究開発センター(土気)の論文著者

関連著者

• 尾嶋 正治

  東京大学工学部

• 脇 一太郎

  東京大学工学系研究科:(現)科学技術振興事業団crest研究員

• 奥山 峰夫

  昭和電工株式会社研究開発センター

• 藤岡 洋

  東京大学生産技術研究所:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業(jst-crest)

• 奥山 峰夫

  昭和電工株式会社 研究開発センター

• 藤岡 洋

  東京大学工学系研究科

• 三木 久幸

  昭和電工株式会社研究開発センター(土気)

• 三木 久幸

  東京大学工学系研究科

著作論文

• p型GaNの低温活性化とそのメカニズム(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)

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