池田 進 | 佐賀大学理工学部工業化学科

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概要

• 同名の論文著者
• 佐賀大学理工学部工業化学科の論文著者

関連著者

• 池田 進

  佐賀大学理工学部工業化学科

• 永野 正光

  佐賀大学理工学部機能物質化学科

• 藤田 寛治

  佐賀大学理工学部

• 藤田 寛治

  佐賀大学理工

• 奥野 喜裕

  佐賀大・理工

• 芳尾 真幸

  佐賀大学理工学部機能物質化学科

• 池田 進

  佐賀大学機器分析センター

• 奥野 喜裕

  佐賀大学理工学部電気工学科

• 荒尾 真幸

  佐賀大学理工学部工業化学科

• 芳尾 真幸

  佐賀大学機器分析センター

• 速水 良晃

  佐賀大学理工学部工業化学科

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著作論文

• ハイブリッドプラズマCVDによる炭素膜作製に及ぼす基板温度の影響
• ハイブリッドプラズマCVDによるダイヤモンド状炭素膜の合成 : 入射イオンエネルギー効果
• CVD 法によるルチル基板上への SnO_2 薄膜の析出
• CVD法による各種金属基板上へのSiCの析出
• 気相成長法による酸化スズ結晶の晶癖
• 直流マグネトロンプラズマCVDにより形成した酸化スズ薄膜の光学及び電気的性質に及ぼす基板温度の影響

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