鈴木 健夫 | 東京電機大 工

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概要

• 同名の論文著者
• 東京電機大 工の論文著者

関連著者

• 鈴木 健夫

  東京電機大学工学部

• 鈴木 健夫

  東京電機大 工

• 鈴木 健夫

  東電大

• 岡本 信治

  NHK放送技術研究所

• 田中 克

  NHK放送技術研究所

• 安達 弘徳

  東京電機大学工学部

• 岡本 信治

  NHK放送技術研究所表示・機能素子研究部

• 滝沢 國治

  成蹊大学理工学部

• 河内 哲哉

  日本原子力研究開発機構

• 青柳 克信

  理研

• 安藤 剛三

  理研

• 原 民夫

  Toyota Technological Institute

• 河内 哲哉

  原研関西研

• 森下 忠隆

  (財)国際超電導産業技術研究センター(istec)超電導工学研究所

• 森下 忠隆

  (財)国際超電導産業技術研究センター超電導工学研究所

• 滝沢 國治

  成蹊大学工学部

• 河内 哲哉

  理研

• 原 民夫

  豊田工大

• 安藤 剛三

  豊田工大

• 三原 勝

  理研フロンティア

• 田淵 浩一郎

  東京電機大学

• 座間 秀昭

  (財)国際超電導産業技術研究センター超電導工学研究所

• 滝沢 國治

  成蹊大学

• 石川 一洋

  東京電機大学工学部

• 三原 勝

  理研

• Kawachi Tetsuya

  Quantum Beam Science Directorate Kansai Photon Science Institute Jaea

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著作論文

• レーザースパッタ法による低温c軸配向相NdBa_2Cu_3O_x薄膜の作製
• 無機ELデバイスにおけるSrTiO_3とSiO_2による多層積層構造の誘電特性
• 無機ELデバイスにおけるSrTiO_3とSiO_2による多層積層構造の誘電特性
• 無機ELデバイスにおけるSrTiO_3とSiO_2による多層積層構造の誘電特性(発行型/非発行型ディスプレイ合同研究会)
• 31a-S-4 パルス列レーザー生成プラズマによる軟X線レーザー利得の不純物の影響
• レーザの黎明と発展の一側面

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