寺島 慶一 | 千葉工業大学
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概要
関連著者
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寺島 慶一
千葉工業大学
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寺島 慶一
千葉工業大学工学部
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松坂 菊生
東洋製罐グループ綜合研究所
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松坂 菊生
芝浦工業大学
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峯岸 知弘
千葉工業大学
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増子 昇
千葉工業大学 金属工学科
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小野 幸子
早稲田大学理工学総合研究センター
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西山 文隆
広島大学工学部
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増子 昇
千葉工業大学金属工学科
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増子 昇
千葉工業大学
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志田 あづさ
横浜市工業技術支援センター
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堀口 誠
東洋製罐(株) 環境対策室
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小野 幸子
工学院大学工学部
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坂本 浩基
広島大学大学院
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広川 健
広島大学工学部
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木曽 義之
広島大学工学部
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岩木 正哉
理研
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岩木 正哉
理化学研究所
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斉藤 誠
エビナ電化工業(株)
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峯岸 知弘
千葉工大
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堀口 誠
東洋製缶グループ総合研究所
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松坂 菊生
元東洋製缶グループ総合研究所
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逢坂 哲弥
早稲田大学 理工学部
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西山 文隆
広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻応用化学
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吉田 智
広島大学大学院
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関根 一夫
千葉工業大学
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渡辺 徹
東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻
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森山 広思
東邦大学理学部
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齋藤 誠
エビナ電化工業(株)
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板垣 昌幸
東京理科大学
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鈴木 正教
日本パーカライジング(株)技術研究所
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峯岸 知也
千葉工業大学
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鈴木 正教
日本パーカライジング(株)総合技術研究所
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山崎 桓友
山崎技術士事務所
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戸井田 浩
千葉工業大学
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渡辺 徹
東京都立大学 工学部
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堀口 誠
東洋製罐グループ綜合研究所
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田中 成穂
菱日エンジニアリング(株)
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望月 隆
望月エムエスティ研究所
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海老名 延郎
エビナ電化工業(株)
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青野 桂子
北里大学
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山崎 桓友
鶴岡工業高等専門学校
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海老名 延郎
ヱビナ電化工業(株)
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西山 明秀
千葉工業大学大学院
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香田 浩之
同和鉱業 (株)
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竹内 栄一
(株) ムロコーポレーション
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山崎 桓友
鶴岡工高専
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八代 利之
(株) 日金総研技術研究所帯鋼研究部
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関根 一夫
千葉工業大学大学院
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鈴木 博則
千葉工業大学大学院
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寺島 慶一
千葉工業大学金属工学科
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海老名 延郎
ヱビナ電化工業 (株)
-
鈴木 正教
日本パーカライジング (株) 総合技術研究所
-
佐藤 信行
東洋製罐グループ綜合研究所
著作論文
- マグネシウムダイカストAZ91Dの化成処理および陽極酸化により生成した皮膚の組成と形態
- H_2-H_2O-Ar混合ガス中で酸化したFe-1.26および2.12mass%Al合金の組織変化と内部酸化
- アルミニウム急冷合金陽極酸化皮膜の静電容量特性と皮膜構造
- イオンビーム励起によるCeイオン注入α-AI_2O_3の発光特性
- マグネシウムダイカストAZ91Dの陽極酸化により生成した皮膜の構造と成長機構
- マグネシウムダイカストAZ91Dの化成処理により成長した表面皮膜の構造と生成機構
- 電気化学的インピーダンス法によるSargent浴中のクロム電析機構の解析
- ガラス状炭素へイオン注入したNaの深さ分布と注入層の密度変化
- 窒素イオン注入した浸炭焼入鋼及び調質鋼のすべり摩耗特性
- 窒素イオン注入により生成するTi窒化物とZr窒化物のXPSによる解析
- IVa族遷移金属への窒素イオン注入による表層薄膜組成と着色性
- 明治・大正・昭和前期刊行 表面処理関係図書目録
- 日本表面技術分野における独自技術の開発を : 第111回講演大会を迎えるにあたって
- 石田 春律の「金屋子縁記抄」とその周辺
- 近世の古鉄流通と再生-古鉄商に見る鉄のリサイクル-
- 近世初期の日蘭貿易による鉄輸出の実態
- 表面処理用語の語源散策 「錆」と「腐食」の語史
- 「カネ」から「金属」へ -Metalの訳語について-
- 「表面」の語史
- 表面処理用語の語源散策(その6) -メタリコンから溶射へ-
- 表面処理用語の語源散策 -ぶりきの履歴書-
- 史料でたどる日本の前近代めっきの歴史(その2) -金めっきから電気めっき技術の移植まで-
- 幕末・明治期刊行図書にみる電気めっき受容の一断面
- 金属窒化物層の組成及び耐食性
- 制御雰囲気のもとでの加熱処理によるステンレス鋼の不動態化
- クロム板へのMeV窒素イオン多重注入 : II. 窒素濃度プロファイルに対する熱処理効果
- クロム板へのMeV窒素イオン多重注入 : I. 改質層の結晶性に対する注入基板温度の影響
- 金属バナジウムへの窒素イオン注入により生成する表面窒化薄層の特性
- 4a及び5a族遷移金属の水素吸収に及ぼす窒素イオン注入の影響 (イオンビ-ムによる表面改質とパッシベ-ション)
- 金属クロムにイオン注入された窒素の深さ分布に及ぼす熱処理の影響
- マグネシウム--その誕生とおいたち (マグネシウムの表面処理)
- Nitrogen distribution of ion implanted into electrodeposited chromium films.