河村 達郎 | NHK放送技術研究所
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概要
関連著者
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河村 達郎
NHK放送技術研究所
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河村 達郎
日立
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河村 達郎
株式会社日立製作所電子デバイス事業部
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谷岡 健吉
NHK放送技術研究所
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設楽 圭一
NHK放送技術研究所
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設楽 圭一
日本放送協会 放送技術研究所
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竹歳 和久
NHK放送技術研究所
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竹歳 和久
NHK総合技術研究所
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山崎 順一
NHK放送技術局
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野中 育光
(株)日立製作所電子デバイス事業部
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山下 孝
Nhk
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山下 孝
Nhk放送技研
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高崎 幸男
日立中央研究所
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平井 忠明
日立中央研究所
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野中 育光
日立茂原工場
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後藤 直宏
(株)日立製作所電子デバイス事業部
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山本 昌直
株式会社日立製作所茂原工場
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山本 昌直
日立デバイスエンジニアリング(株)
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昼間 栄久
NHK放送技術研究所
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井上 栄典
(株)日立製作所
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江上 典文
NHK放送技術研究所
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佐藤 史郎
NHK放送技術研究所
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高嵜 幸男
日立
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山田 隆博
松下電器
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山田 隆博
松下電器産業(株)中央研究所
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平井 忠明
浜松ホトニクス
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松長 誠之
株式会社東芝研究開発センター
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松長 誠之
東芝
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岡崎 三郎
Nhk放送技術研究所材料・デバイス
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小杉 美津男
NHK放送技術研究所
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高崎 幸男
日立
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倉重 光宏
NHK
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倉重 光宏
NHK放送技術研究所
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棚田 詢
通信・放送機構
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平井 忠明
株式会社日立製作所中央研究所
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高崎 幸男
株式会社日立製作所茂原工場
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平井 忠明
(株)日立デバイスエンジニアリング
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河村 達郎
浜松ホトニクス
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井上 栄典
日立茂原工場
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井上 栄典
(株)日立製作所茂原工場
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野中 育光
(株)日立製作所茂原工場
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千川 純一
高エネルギー研
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山田 隆博
松下電器産業 先端技研
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奥村 和明
浜松ホトニクス
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奥村 和明
浜松ホトニクス株式会社電子管第2事業部
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曾根 武彦
東京電機大・現日本ビクター
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斉藤 仁史
東京電機大・現協栄産業
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雲内 高明
株式会社日立製作所茂原工場
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石岡 祥男
日立中央研究所
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松長 誠之
株式会社東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所 デバイス技術研究所
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山田 隆博
松下電器産業(株)先端技術研究所
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棚田 詢
池上通信機株式会社
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千川 純一
姫路工大理学部
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千川 純一
高エネルギー物理学研究所
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岡崎 三郎
Nhk放送技術研究所
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後藤 直宏
NHK放送技術研究所
著作論文
- 高性能ニューサチコンターゲットの開発
- 2-7 新型サチコン光導電膜の開発
- X線サチコンによるGaAsの融解過程のその場観察
- X線回折法による光導電ターゲットの構造解析(第2報) : 薄膜ターゲットの非破壊組成決定法
- アバランシェ増倍a-Se光導電膜を用いた高感度HARP撮像管
- 2.情報入力(テレビジョン年報)
- カメラ(HDTV(ハイビジョン)(第5回))
- 2.撮像管の高感度化(高感度撮像技術)
- 2-部門講演(1) ハイビジョン用撮像管の現状と将来
- 2-10 HARPターゲットを適用したハイビジョン用高感度撮像管
- 2-9 アバランシェ動作非晶質Se光導電膜(HARPターゲット)
- 高感度ターゲットにおけるSN比の考察 : 新しい最小二乗法によるa-Seターゲットのイオン化係数の導出
- 光導電型ターゲットの高感度化 : 非晶質Se光導電ターゲットによるアバランシェ動作実験
- 2-4 蒸着部一体型ターゲット測定装置の開発
- 2-5 Se-As-Te系ターゲットにおける焼付特性の改善
- 2-5 光導電性ターゲットの高利得化