岡田 貴行 | 豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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概要
関連著者
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石田 誠
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
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澤田 和明
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
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石田 誠
豊橋技術科学大学
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澤田 和明
豊橋技術科学大学
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伊藤 幹記
豊橋技術科学大学
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岡田 貴行
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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Sawada K
Shizuoka Univ. Hamamatsu
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Ishida M
Univ. Tsukuba Tsukuba Jpn
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Ishida M
Institute Of Applied Physics Crest Japan Science And Technology Corporation University Of Tsukuba
著作論文
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシヤルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用