和佐 清孝 | 松下電器材料研
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
和佐 清孝
松下電器材料研
-
和佐 清孝
松下電器材研
-
稲葉 律夫
松下電器産業中央研究所
-
稲葉 律夫
松下電器材料研
-
北畠 真
松下電器産業 先端技研
-
北畠 真
松下電器材研
-
三露 常男
松下電器材料研
-
小野 周佑
松下電器材料研
-
田中 年秀
松下電器電子機器研究所
-
三露 常男
松下電器中央研究所
-
笠原 征夫
松下電器材料研
-
瀬恒 謙太郎
松下電器電子機器研
-
山崎 攻
松下電器電子機器研
著作論文
- 30p-SC-9 非晶質Li-Nb-Oスパッタ膜の誘電特性
- 1-22 ZnO/Al_2O_3構造を用いた2.2GHzSAWフィルタ(一般講演)
- 薄膜化技術 (先端分野における材料技術)
- 高性能セラミックスの薄膜合成--多元化合物薄膜のエピタキシャル成長 (微細構造の設計)
- ニュ-ガラスの薄膜化 (ニュ-ガラス時代の幕開けと新機能開発) -- (ガラス材料と企業化戦略)
- 膜受動部品 (膜部品技術小特集)
- SiC薄膜高温サ-ミスタ (センサ) -- (センシングデバイス)
- 材料技術としての薄膜化 (〔松下電器産業K.K.〕材料研究所) -- (材料技術)
- セラミックス高温超伝導体の薄膜化 (超伝導物質)
- スパッタ-法によるアモルファス化合物薄膜 (新アモルファスセラミックス)
- 2-24 弾性表面波を用いた電位センサ(一般講演)
- 2-13 LiTaO_3高安定弾性表面波材料(一般講演)
- 2-9 同軸マグネトロンスパッタによるZnO薄膜の形成とその応用 : ZnO薄膜SAW長時間遅延線(一般講演)