片山 正士 | 東京工業大学応用セラミックス研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 東京工業大学応用セラミックス研究所の論文著者

関連著者

• 松本 祐司

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 片山 正士

  東工大応セラ研

• 松本 祐司

  東京工大 応用セラミックス研

• 片山 正士

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 松本 祐司

  東京工業大学 応用セラミックス研究所

• 藤井 康裕

  電通大量子・物質

• 伊藤 満

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 谷口 博基

  東工大応セラ研

• 藤井 康裕

  青学大理工

• 谷口 博基

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 藤井 康裕

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 伊藤 満

  東京工業大学工業材料研究所

• Fujii Yasuhiro

  Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8503, Japan

• 谷口 博基

  東京工業大学 応用セラミックス研究所

• 伊藤 満

  東京工業大学・工業材料研究所

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著作論文

• 28pRB-2 ホモエピタキシャルSTO18薄膜の構造相転移(28pRB 誘電体(SrTiO_3系),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 二酸化チタンヘテロナノ構造の精密設計と新現象・機能探索

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