岡林 則夫 | 東大院総合
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
山崎 泰規
東大院総合
-
小牧 研一郎
東大院総合
-
岡林 則夫
東大院総合
-
岡林 則夫
東大院総合:理研
-
岡林 則夫
東北大学多元物質科学研究所
-
鳥居 寛之
東大院総合
-
鳥居 寛之
東大院総合文化
-
黒木 健郎
科警研
-
岩井 良夫
理研原子物理
-
益田 秀樹
都立大工
-
岩井 良夫
東大院総合
-
村越 大
東大院総合
-
Masuda Hideki
Ogawa & Co. Ltd. Material R&d Laboratory
-
金井 保之
理研
-
中井 陽一
理研
-
森下 雄一郎
理研
-
西尾 和之
都立大工
-
東 俊行
筑波大物工
-
西尾 和之
神奈川科学技術アカデミー
-
小牧 研一郎
理研
-
遠藤 厚身
東大院総合
-
遠藤 厚身
理研:東大院総合
著作論文
- 30pZF-11 マイクロキャピラリーターゲットを通過した5keV/q N^の荷電分布の測定
- 28aXD-12 多価イオンによる Si(100) 表面上吸着原子のイオン化脱離
- 28pTA-12 多価イオンによるH_2O/Si(100)表面からの2次イオン脱離
- 22aWB-6 多価イオンによるH_2O/Si(100)表面からのプロトン脱離
- 23aF-10 Niマイクロキャピラリーを通過したXe^の荷電分布の測定
- 22aC-7 高温超伝導体を用いた小型多価イオン源の設計
- 26p-YM-13 低速多価イオンによるプロトンスパッタリングに関する研究IV
- 27pWD-6 多価イオンによるフッ素吸着Si(100)表面からの二次イオン脱離(27pWD 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長分野))