市川 昌和 | 東京大学工学部物理工学科

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概要

• 同名の論文著者
• 東京大学工学部物理工学科の論文著者

関連著者

• 市川 昌和

  半導体mirai-産総研asrc:東大

• 宮田 典幸

  アトムテクノロジー研究体

• 宮田 典幸

  次世代半導体研究センター

• 太田 裕之

  次世代半導体研究センター

• 市川 昌和

  東京大学工学部物理工学科

• 宮田 典幸

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 市川 昌和

  東京大学 工学部 物理工学科

著作論文

• 走査型トンネル顕微鏡を用いたhigh-kゲート絶縁膜の評価 : STMスポットと正固定電荷の相関(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)

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