眞田 則明 | アルバック・ファイ(株)分析室
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概要
関連著者
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眞田 則明
アルバック・ファイ(株)分析室
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田中 彰博
アルバック・ファイ株式会社
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田中 彰博
アルバック・ファイ(株)
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鈴木 峰晴
アルバック・ファイ株式会社
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井上 りさよ
アルバック・ファイ株式会社
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田中 彰博
アルバック・ファイ (株)
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岩井 秀夫
独立行政法人物質・材料研究機構
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小林 力
アルバック・ファイ(株)技術部
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小林 力
アルバック・ファイ株式会社 技術部
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岩井 秀夫
立命館大理工:アルバックファイ
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小林 力
アルバック・ファイ
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宮山 卓也
アルバック・ファイ株式会社
著作論文
- Arクラスターイオンビームを用いたポリイミド薄膜のXPS深さ方向分析 (2009年度実用表面分析講演会(PSA-09)講演資料)
- 新しい表面分析法
- 講義 電子分光におけるスペクトル強度と幅の理論的解釈
- X線光電子分光法による材料分析・解析における最新技術 (特集 材料分析・観測技術の勘どころ)
- Arガスクラスターを用いた低損傷有機物スパッタリング (表面分析研究会 第35回研究会 講演資料)
- CMAオージェの特徴と有用性 (第34回表面分析研究会講演資料)
- 高分子材料のXPS深さ方向分析におけるC_イオンビーム入射角の影響
- X線光電子分光法(XPS)
- コンビナトリアル手法に適合するX線光電子分光(XPS)装置(PHI Quantera ?) (小特集 コンビナトリアル・ドライプロセス)
- コンビナトリアル手法に適合するX線光電子分光(XPS)装置 (PHI Quantera II)