浅利 正敏 | 株式会社イオン工学研究所

スポンサーリンク

概要

• 浅利 正敏の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 株式会社イオン工学研究所の論文著者

株式会社イオン工学研究所 | 論文

• Cat-CVD法で作製したSiN_x膜のGaAsトランジスタ保護膜への応用(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
• 電子サイクロトロン共鳴プラズマによる黒鉛表面のフッ素化改質
• C/C コンボジットへの耐酸化・耐熱衝撃性被覆
• 鉄および鉄-チタン合金薄膜への低エネルギ-窒素イオン注入
• 窒素ガス中の直流チタンアーク放電を用いたプラズマイオン注入による窒化チタン膜コーティング(プラズマ・表面相互作用)

もっと見る

スポンサーリンク