西村 幸雄 | 九州大学大学院総合理工学研究科
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概要
関連著者
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西村 幸雄
九州大学大学院総合理工学研究科
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関谷 博
鹿児島大学大学院理学研究科
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関谷 博
Ntt東日本研究開発センタ
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辻 正治
九州大学先導物質化学研究所
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西村 幸雄
九州大学機能物質科学研究所
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辻 剛志
九大先導研・crest
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辻 正治
九州大学
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Tsuji Masaharu
Institute Of Advanced Material Study And Department Of Molecular Science And Technology Graduate Sch
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Tsuji Masaharu
Crest Jst
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辻 剛志
九州大学 機能物質科学研究所
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Tsuji M
Matsushita Battery Industrial Co. Ltd. Osaka Jpn
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関谷 博
東北大学工学部
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田中 敦
九州大学大学院総合理工学研究科
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関谷 博
九州大学機能物質科学研究所
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Mori Atsunori
Department Of Synthetic Chemistry The University Of Tokyo
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Mori A
Department Of Synthetic Chemistry The University Of Tokyo
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辻 正治
九州大学生産科学研究所
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西村 幸雄
九州大学生産科学研究所
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Tanoue T
Kyushu Univ. Fukuoka
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久保 勘二
九大・機能研
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森 章
九大・機能研
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浜辺 秀典
株式会社栗田工業
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林 良之
日立超LSI株式会社
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関谷 博
九州大学理学研究院
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辻 剛志
九州大学機能物質科学研究所
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西岡 研一
九州大学大学院総合理工学研究科
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辻 正治
九州大学大学院総合理工学研究科
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岡野 慎司
九州大学大学院総合理工学研究科
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辻 正治
九州大学機能物質科学研究所
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辻 剛志
九大・機能研
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西村 幸雄
九大・機能研
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濱上 太郎
九州大学大学院総合理工学府 量子プロセス理工学専攻
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中野 広輔
九州大学大学院総合理工学府 量子プロセス理工学専攻
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仲野 直彦
九州大学大学院総合理工学研究科分子工学専攻修士課程2年
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Tsuji Takeshi
Crest Jst
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辻 剛志
九州大学・機能研
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尾場瀬 宏
東和大 工
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篠原 啓二
分子工学専攻
著作論文
- 蛍光ディップ法による5-フェニルトロポロンの分子内プロトン移動の解析
- シリコン基板上の堆積膜の赤外反射吸収スペクトルに対するシリコン酸化膜の影響
- Ar/CF4混合ガスの放電フロー中でのシリコンのケミカルドライエッチングーエッチャント生成に関与するAr活性種の同定ー
- PAb03 光散乱法を利用した液晶分子の相転移温度の評価(1)
- シリコン表面窒化用活性窒素フロー装置の開発
- 熱エネルギーイオンビーム法によるプラズマプロセスガスのイオン化・分解素過程に関する研究
- 放電フロー型ケミカルドライエッチング装置の試作
- 超音速ジェット冷却された有機分子の多次元プロトントンネリング
- パルス放電ビーム法によるラジカルの生成と分光
- 光誘起プロトン移動とその応用
- 励起原子による分子の励起・解離過程
- 超音速ジェット-レ-ザ分光法によるトロポロン類の分子内水素結合に関する研究
- レ-ザ-による反応生成物の内部状態分布の解析と気相2分子反応のダイナミックス (レ-ザ-の化学への応用)
- 衝突素過程からみた反応性プラズマ (制御されたプロセス用プラズマを目指して--その現状と将来展望)
- Ar(3P2,0)とCH3X(X=Cl,Br,I),SiH4,Si2H6との解離性励起移動におけるCH,SiHラジカルのレ-ザ-誘起蛍光法による検出 (不安定化学種の構造と反応) -- (気相)
- 非平衡プラズマによる分子の励起・解離過程と分子イオンのスペクトル
- Visible Emission Systems in Silicon Monoiodide
- 分子イオンの発光過程
- プロ-ブによる急冷効果に関する研究-2- (江淵藤彦博士記念号)
- 研究の軌跡を辿る
- Visible Emission Systems in Silicon Monoiodide
- 分子イオンの発光過程
- 放電アフタ-グロ-中における反応