福島 正二 | 株式会社資生堂基礎科学研究所
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概要
関連著者
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福島 正二
株式会社資生堂基礎科学研究所
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山口 道広
(株)資生堂研究所
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資生堂基礎科学研究所
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(株)資生堂基盤技術研究所
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株式会社資生堂リサーチセンター(新横浜)
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株式会社資生堂基礎科学研究所
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株式会社資生堂 基盤技術研究所
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福島 正二
資生堂基礎科学研究所
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(株)資生堂研究所
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(株) 資生堂基礎科学研究所
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福島 正二
(株) 資生堂研究所
著作論文
- 環状シロキサンによる反応型超薄膜コーティング技術の開発
- セトステアリルアルコールで安定化した水中油型エマルションの内部構造
- セトステアリルアルコールーポリエトキシオレイルエーテル-水三成分系の相図
- クリ-ムの界面化学--セトステアリルアルコ-ルの役割
- 高級アルコ-ルの融点と転移点への水の影響
- セトステアリルアルコ-ル-非イオン界面活性剤-水系中に生成する液晶
- 美を演出する化粧品の化学(美しく見せる)
- セトステアリルアルコール-非イオン界面活性剤-水系中に生成する液晶
- 高級アルコールの融点と転移点への水の影響