吉川 正信 | (株)東レリサーチセンター
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概要
関連著者
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吉川 正信
(株)東レリサーチセンター
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石田 英之
東レリサーチセ
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吉川 正信
(株)東レリサーチセンター構造化学研究部
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吉川 正信
東レリサーチセンター
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石田 英之
(株)東レリサーチセンター構造化学研究部
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石田 英之
(株)東レリサーチセンター
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中島 信一
(独)産業技術総合研究所 パワーエレクトロニクス研究センター
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三谷 武志
(独)産業技術総合研究所, パワーエレクトロニクス研究センター
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中島 信一
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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三谷 武志
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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岩上 景子
(株)東レリサーチセンター
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永井 直人
東レリサーチセンター
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石田 英之
東レリサーチセンター
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松延 剛
東レリサーチセンター
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石田 英之
東レレサーチセンター
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清水 良祐
愛宕物産(株)物性機器部
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永井 直人
(株)東レリサーチセンター
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片桐 元
東レリサーチセ
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三谷 武志
(独)産業技術総合研究所 パワーエレクトロニクス研究センター
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清水 良祐
愛宕物産(株)
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永井 直人
東レリサーチセンター(株)
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松延 剛
(株)東レリサーチセンター
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中島 信一
産業技術総合研究所
著作論文
- ラマン散乱分光法によるシリコンのひずみ・応力評価
- ラマン分光法によるダイヤモンド状炭素膜の構造評価
- フッ素添加酸化膜の構造解析
- ラマン分光法による表面・薄膜の構造評価
- ラマン分光分析
- 全反射ラマン分光法による薄膜の分子構造, 分子配向及び屈折率の異方性の評価(表面・界面・薄膜と分析化学)
- 紫外励起近接場ラマン顕微鏡によるシリコン半導体の二次元応力評価