中尾 公一 | 関西大学工学部

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概要

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• 同名の論文著者
• 関西大学工学部の論文著者

関連著者

• 飯田 幸雄

  関西大学ordist・工学部

• 中尾 公一

  関西大学工学部

• 大村 泰久

  関西大学ordist・工学部

• 田村 進

  関西大学ordist・工学部

• 田村 進

  関西大学システム理工学部

著作論文

• FDTDシミュレーション技術を用いた材料測定法に関する検討 : ミリ波帯金属表皮抵抗と半導体ウェハを含む誘電体板の測定(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
• FDTDシミュレーション技術を用いた材料測定法に関する検討 : ミリ波帯金属表皮抵抗と半導体ウェハを含む誘電体板の測定(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
• FDTDシミュレーション技術を用いた材料測定法に関する検討 : ミリ波帯金属表皮抵抗と半導体ウェハを含む誘電体板の測定
• A study on method of semiconductor materials measurement supported by accurate FDTD EM-field simulation in millimeter-wave range (安全・安心・快適な社会構築のための知能・感性・情報通信技術の応用プロジェクト)

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