廣野 卓夫 | 日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所
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概要
関連著者
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廣野 卓夫
日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所
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ルイ ウェイン
Nttフォトニクス研究所
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関 俊司
NTTフォトニクス研究所
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廣野 卓夫
NTT光エレクトロニクス研究所
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横山 清行
Ntt光エレクトロニクス研究所
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関 俊司
NTT光エレクト ロニクス研究所
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ルイ ウェイン
NTT光エレクトロニクス研究所
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吉國 裕三
NTTフォトニクス研究所
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廣野 卓夫
NTTフォトニクス研究所
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吉國 裕三
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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吉國 裕三
NTT光エレクトロニクス研究所
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吉国 裕三
Nttフォトニクス研究所
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吉国 裕三
Ntt光エレクトロニクス研究所
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柴田 泰夫
Nttフォトニクス研究所
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硴塚 孝明
NTTフォトニクス研究所
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杉浦 英雄
NTT光エレクトロニクス研究所
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柴田 泰夫
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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柴田 泰夫
NTTフォトニクス研究所、日本電信電話株式会社
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大橋 弘美
Ntt光エレクトロニクス研究所
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神徳 正樹
Nttフォトニクス研究所
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東盛 裕一
Ntt フォトニクス研究所
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神徳 正樹
NTT光エレクトロニクス研究所
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吉國 裕三
日本電信電話株式会社ntt光エレクトロニクス研究所
著作論文
- 直線/曲線導波路接続部において一次モードの励起を除去するオフセット量
- 3次元BPMによる高結合効率スポットサイズ変換レーザ(SS-LD)の設計
- シンプレクティック数値解法を用いた光波シミュレーション
- シンプレクティック数値解法を用いた光波シミュレーション
- 高精度シンプレクテイック時間領域光波解析
- 1.3μm帯InP系歪み量子井戸LDの温度特性の支配要因
- 標準的FDTD法(二次元・TE偏波)における二次精度媒質境界条件
- B-7-32 WDM光リングネットワークおけるフェアネスの検討
- C-1-17 吸収媒質内の四次精度シンプレクティックFDTDスキームとそのPML吸収境界条件への応用
- 構造変動を有するフォトニック結晶の解析
- C-1-11 シンプレクティック・プロパゲータを用いた三次元・四次精度FDTDスキームの安定性と数値分散
- C-1-9 四次精度 FDTD 法用三次精度有効誘電率(二次元 TE 偏波)
- C-1-5 四次精度FDTD法用三次精度有効誘電率 (二次元TM偏波)