小川 真一 | 株式会社半導体先端テクノロジーズ

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• 小川 真一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 小川 真一

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 小川 真一

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 斎藤 修一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 近藤 誠一

  半導体先端テクノロジーズ

• 井上 靖秀

  (株)日産アーク

• 丸山 浩二

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 塩原 守雄

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 山田 浩司

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 近藤 誠一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 塩原 守雄

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 近藤 誠一

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 丸山 浩二

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 深谷 孝一

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 山田 浩司

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 斎藤 修一

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 大塚 祐二

  株式会社東レリサーチセンター

• 川崎 直彦

  株式会社東レリサーチセンター

• 清水 夕美子

  株式会社東レリサーチセンター

• 大塚 信幸

  富士通研究所

• 島田 美代子

  (株)半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 島貫 純一

  (株)日産アーク

• 大塚 信幸

  (株)半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 古谷 晃

  (株)半導体先端テクノロジーズ(Selete)

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著作論文

• ポーラスSiOCダイレクトCMP後洗浄における界面活性剤のHLB効果
• 低誘電率 (low-k) 材料のEELSによる局所構造解析
• TEMトモグラフ法によるLow-k膜空孔の3次元構造の評価、および空孔構造のプロセスへ与える影響(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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