大観 光徳 | 鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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概要
関連著者
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大観 光徳
鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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田中 省作
鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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鳥取大学
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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大観 光徳
鳥取大学大学院工学研究科
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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田中 正志
鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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祖川 久茂
鳥取大学工学部電気電子工学科
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祖川 久茂
鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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山田 公彦
鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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鳥取大学工学部電気電子工学科
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鳥取大学工学部電気電子工学科
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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國本 崇*
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小野田 貴稔
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鳥取大学工学部電気電子工学科
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鳥取大学工学部電気電子工学科
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鳥取大学工学部電気電子工学科
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鳥取大学工学部電気電子工学科
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木多 晋裕
鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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植木 亮裕
鳥取大学工学部電気電子工学科
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鳥取大学 工学部 電気電子工学科
著作論文
- Xe_2分子線励起用SrGd_4Si_3O_:Tb^緑色蛍光体の作製と評価(ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術,発光・非発光型ディスプレイ合同研究会)
- Pulsed Laser Deposition 法による硼酸塩蛍光体薄膜の作製
- PDP用青色蛍光体CaMgSi_2O_6 : Eu^におけるGd共添加による発光特性の改善
- 液相合成法による真空紫外励起用珪酸塩蛍光体の作製
- Xe_2分子線励起用SrGd_4Si_3O_:Tb^緑色蛍光体の作製と評価
- 青色蛍光体(Sr,Ba)_3MgSi_2O_8:Eu^の励起発光特性
- 青色蛍光体(Sr,Ba)_3MgSi_2O_8:Eu^の励起発光特性(ディスプレイに関する技術全般 : LCD(バックライトを含む), PDP, 有機/無機EL, CRT, FED, VFD, LEDなどのディスプレイに関するデバイス, 部品・材料及び応用技術, 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- Xe_2分子線励起用CaLa_4Si_3O_:Tb^緑色PDP蛍光体の作製と評価
- Pulsed Laser Deposition 法による硼酸塩蛍光体薄膜の作製
- PDP用青色蛍光体CaMgSi_2O_6 : Eu^におけるGd共添加による発光特性の改善
- 複数の希土類元素を添加したCaMgSi_2O_6を母体とする蛍光体の発光特性
- 新しいPDP青色蛍光体を目的としたCaMgSi_2O_6 : Eu^2+の劣化特性
- PLD法による青色発光CaAl_2O_4:Eu^蛍光体薄膜の作製
- PLD法による青色発光CaAl_2O_4:Eu^蛍光体薄膜の作製
- 青色蛍光体(Sr,Ba)_3MgSi_2O_8:Eu^の励起発光特性
- Xe_2分子線励起用CaLa_4Si_3O_:Tb^緑色PDP蛍光体の作製と評価
- 青色EL材料SrS:Ceのアルカリ金属添加による発光特性の改善
- PDPの階調表示に対する蛍光体発光寿命の影響
- β-トリジマイト型構造を持つアルミン酸塩蛍光体のPDPへの応用の可能性
- レーザ・アブレーション法で作製したZnO:Zn蛍光体薄膜の発光特性
- PDPの階調表示に対する蛍光体発光寿命の影響
- β-トリジマイト型構造を持つアルミン酸塩蛍光体のPDPへの応用の可能性
- 短蛍光寿命緑色蛍光体のPDPへの応用の可能性
- アクティブマトリックスELディスプレイにおける階調表示の検討 (2)
- 電子線蒸着法による青色発光SrS:Cu薄膜EL素子の作製と評価 : Cu添加濃度と熱処理の効果
- SrS:Ce薄膜EL素子の動作機構の解析 : 空間電荷特性の温度依存性
- SrS:Ce薄膜EL素子の発光スペクトルの制御 : 薄膜中のCe濃度と電荷補償剤Naの効果
- 付加パルスを用いた薄膜ELパネルの駆動方式(II)
- 薄膜ELパネルの回路モデルとSPICEによるシミュレーション
- 台形波パルス電圧印加による薄膜EL素子の特性評価 : 情報ディスプレイ
- 電子線蒸着法により高イオウ圧雰囲気中で作製したSrS:Ce薄膜EL素子 : 情報ディスプレイ
- SrS薄膜EL素子のイオウ雰囲気中熱処理によるEL特性の改善 : 情報ディスプレイ