広瀬 全孝 | 次世代半導体研究センター

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概要

• 同名の論文著者
• 次世代半導体研究センターの論文著者

関連著者

• 宮崎 誠一

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

• 村上 秀樹

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 広瀬 全孝

  産業技術総合研究所

• 三原 竜善

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 広瀬 全孝

  次世代半導体研究センター

• 宮崎 誠一

  広島大学大学院

• 村上 秀樹

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

著作論文

• Sub-0.1μm nMOSFETにおけるn^+poly-Si側壁/SiO_2界面近傍の不純物空乏化現象の定量評価

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