中村 志保 | 東芝研究開発センター
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概要
関連著者
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中村 志保
東芝研究開発センター
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森瀬 博史
東芝研究開発センター
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羽根田 茂
東芝研究開発センター
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中村 志保
(株)東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリー
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田中 国義
(株)東芝研究開発センター
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田中 国義
(株)東芝 基礎研
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岸 達也
(株)東芝・研究開発センター
-
岸 達也
(株)東芝研究開発センター
著作論文
- 22aWB-13 ノンコリニア磁性多層膜におけるスピン流とスピントランスファトルク(微小領域磁性,領域3,磁性,磁気共鳴)
- スピンエレクトロニクスデバイスと磁化制御技術 (特集 イノベーションを支えるナノエレクトロニクス)
- デュアルピン構造におけるスピン注入磁化反転II
- デュアルピン構造におけるスピン注入磁化反転(I)
- 13pWB-9 スピン偏極電流と磁場の共存下でのナノ磁性体の磁化の安定状態(微小領域磁性, 領域 3)
- 27pXJ-3 Co系ナノ磁性体への磁化方向制御スピン電流の注入(領域3シンポジウム : スピン注入現象の新展開)(領域3)
- CoFeナノ磁性体への磁化方向制御スピン電流の注入
- 22pWA-5 Co 系微小エレメントの電流誘起挙動
- スピン偏極STMによるナノメートルスケールでの磁化計測
- スピン走査トンネル顕微鏡によるナノメートルスケール磁化状態評価