Matsui Masanao | Sumitomo Chem. Co. Ltd.

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概要

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論文 | ランダム

• C-10-7 SiCl_4/SF_6/N_2ガスを用いた2ステップGaAs/AlGaAs選択ドライエッチング
• C-10-5 低温成膜STO容量素子の熱処理特性
• ノーマリオフ型セルフアライメント構造PJ-HFET
• SiCl_4/SF_6/N_2ガスを用いた2ステップGaAs/AlGaAs選択ドライエッチング
• 低歪みInGaAs HFETを用いた広帯域アンプの開発

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