Yoshizawa T. | Dept. of Applied Physics and chemistry, The Univ. of Electro-Communications

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概要

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• Dept. of Applied Physics and chemistry, The Univ. of Electro-Communicationsの論文著者

論文 | ランダム

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• Measurement of Diffusion Coefficient of CF_2 Radical in DC Pulsed CF_4/H_2 Discharge Plasma
• Measurements of Diffusion Coefficient of CF_2 Radical in DC Pulsed CF_4/O_2 Discharge Plasma ( Plasma Processing)
• Structural Characterization of Si_Ge_ Alloy Layers with Sb/Ge-Mediated Low Temperature-grown Si Buffers
• Short-Period (Si_/Ge_1)_N Superlattice Buffers for Growth of Si_Ge_ Alloy Layers

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