岩田 修司 | 三菱電機(株)材料デバイス研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 三菱電機(株)材料デバイス研究所の論文著者

三菱電機(株)材料デバイス研究所 | 論文

• 分子線およびレーザー照射による光化学反応性分子膜の作製
• HfSiO_x薄膜のXAFSによる局所構造解析(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
• 放電表面処理における電流パルス形状の検討
• 放電表面改質膜の結晶構造に関する研究
• 115 放電表面処理における電流パルス形状の検討

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