Sebald Michael | Infineon Technologies
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概要
Infineon Technologies | 論文
- Practical Inverse Modeling with SIESTA (Special lssue on SISPAD'99)
- A Novel Embedded Extension SiGe (e^2SiGe) Process for PFET Performance Enhancement for 45nm Technology and beyond
- High Performance and Low Leakage CMOS for 45nm Low Power Technology and Beyond
- High-K/Metal Gate MOSFETsにおける新しいレイアウト依存性(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- High-K/Metal Gate MOSFETs における新しいレイアウト依存性