須山 智史 | 広島工業大学大学院 工学研究科電子工学専攻
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概要
関連著者
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須山 智史
広島工業大学大学院 工学研究科電子工学専攻
-
立附 真
広島工業大学大学院 工学研究科電子工学専攻
-
奥垣 栄二
広島工業大学大学院 工学研究科電子工学専攻
-
立附 真
広島工業大学工学部電子・光システム工学科
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橋爪 信郎
広島工業大学 工学研究科 電子工学専攻
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立附 真
広島工業大学
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奥垣 栄二
広島工業大学工学部電子・光システム工学科
-
橋爪 信郎
広島工業大学 工学部電子・光システム工学科
-
山田 高久
広島工業大学工学部
-
三宅 宏幸
広島工業大学工学部
著作論文
- C-3-122 プラスチック光ファイバの光減衰特性測定法(EDFA・POF)(C-3.光エレクトロニクス)
- SI型POF減衰定数の短い距離間隔での精密測定法
- POF FFPのスペックル雑音除去方法の検討
- SI型POF減衰定数の短い距離間隔での精密測定法(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- POF FFPのスペックル雑音除去方法の検討(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- SI型POF減衰定数の短い距離間隔での精密測定法(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- POF FFPのスペックル雑音除去方法の検討(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- SI型POF減衰定数の短い距離間隔での精密測定法(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- POF FFPのスペックル雑音除去方法の検討(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- SI型POF減衰定数の短い距離間隔での精密測定法(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- POF FFPのスペックル雑音除去方法の検討(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- プラスチック光ファイバ減衰特性の精密測定
- ステップインデックス型プラスチック光ファイバのファーフィールドパターン測定法に関する研究
- B-13-6 POF ファーフィールドパターン測定法の検討