新宅 救徳 | 金沢大学 工学部

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概要

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• 金沢大学 工学部の論文著者

金沢大学 工学部 | 論文

• ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長
• ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長
• ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長
• 反応性スパッタ法によるSi(100)基板上へのYSZ薄膜のエピタキシャル成長
• ECRプラズマCVD法によるSi低温エピタキシャル成長

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