Yamakawa Hiroyuki | ULVAC JAPAN, Ltd.

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概要

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ULVAC JAPAN, Ltd. | 論文

• Usefulness of Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma in Plasma Processing
• Realistic Etch Yield of Fluorocarbon ions in SiO_2 Etch Process
• Observation of Induction Power Dependence on the Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Thermalization Phenomena
• Measurements of Molecular Densities in Low Pressure Discharge Plasmas Using Laser Raman Scattering
• Operation of a CSL Gauge in Extremely High Vacuum

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