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岡田 真行 | チューブシステムズ
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2611 SiCウェハの高温メカノケミカルポリシング(S74-1 砥粒加工(1),S74 砥粒加工)
SiC 半導体単結晶のメカノケミカルポリシング技術 : Si終端面の高能率化の検討
SiC半導体ウエハの精密加工
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超硬合金のELID鏡面研削切断特性
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