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長谷川 治 | TDK (株) 開発研究所
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TDK (株) 開発研究所 | 論文
薄膜直交フラックスゲート磁界センサの作製とその評価
薄膜型直交フラックゲート磁界センサの作製とその評価
Cu/NiFe/Cu/CoPt人工格子における層間結合とMR特性
斜めスパッタ薄膜下地層を用いたグラニュラー薄膜の軟磁性化
斜めスパッタFeNi膜を下地層に用いたCo-Sm-O系グラニュラー薄膜のトンネル型磁気抵抗効果
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