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日本顕微鏡学会分析電子顕微鏡分科会 | 論文
- 収差補正STEMの特長 (電子顕微鏡・装置開発の将来を探る)
- 高分子と化合物半導体 (材料開発における分析電顕の応用)
- ゴムメタルの組織解析 (先端材料への新展開)
- Manipulating current conductivity and attogram mass release in copper halide-filled carbon nanotubes (電顕内でのその場ナノ物性計測)
- Si系デバイス絶縁膜のEELS分析 (分析技法の最前線)
- 金アトミックシートの電気伝導その場観察 (電顕内でのその場ナノ物性計測)
- 鉄鋼を中心とした金属材料系試料作製の現状 (試料作製の基礎と応用展開)
- 高機能鉄鋼材料のナノ領域解析 (先端材料への新展開)
- 暗視野法、CBED(2)CBED (チュートリアル)
- 電子回折強度の計算--収束電子回折を中心に (最新のシミュレーション技法)
- FIBを用いたソフトマテリアルの試料作製 (試料作製のノウハウ)
- 三次元微細構造解析の新展開 (3D可視化技法の新展開)
- 生物試料のクライオ切片--新鮮凍結乾燥超薄切片のマイクロビームアナリシスへの応用 (試料作製のノウハウ)
- 階層的3D4D解析法の現状 (分析技術の進展--ハードの最前線)
- 分析電子顕微鏡討論会の20年の歩みと今後の展開 (〔分析電子顕微鏡討論会〕20周年特別企画)
- HRTEM法及びHAADF-STEM法の基礎と材料学における役割 (チュートリアル:上手に分析するために)
- EELS分析の基礎とマッピング (チュートリアル:上手に分析するために)
- EELS入門--スペクトルデータを上手に計測するために (チュートリアルセッション)
- 高輝度電子銃の開発 (分析電顕のハード最前線)
- 最新FE-EPMAによる高精度X線分析 (分析技法の最前線)